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實驗室光刻機

簡要描述：實驗室光刻機參數(shù)：1.曝光面積:160mm*160mm。2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um。3.對準精度:±1-1.5um。4.光源強度:35mW/cm2。5.UV光源:進口LED模塊。

  • 所在城市：無錫市
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新日期：2025-04-28
  • 訪  問  量：1165

詳細介紹

　　實驗室光刻機產(chǎn)品參數(shù) ：
 
　　1.曝光面積:160mm*160mm
 
　　2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
 
　　3.對準精度:±1-1.5um
 
　　4.光源強度:35mW/cm2
 
　　5.UV光源:進口LED模塊
 
　　6.曝光中心波長:365nm
 
　　7.光源壽命:1萬小時，光源平行性:≤2°
 
　　8.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
 
　　9.照度不均勻性:≤3%
 
　　10.曝光設(shè)定:定時
 
　　11.可執(zhí)行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式
 
　　12.間隙設(shè)定方式:數(shù)字設(shè)定曝光間隙0-1200um
 
　　13.可調(diào)，可自動分離和消除間隙
 
　　14.樣片、掩模版相對移動范圍:X:±5mm，Y:±5mm,0=±6°
 
　　15.掩模版找平方式:球氣浮自動找平
 
　　16.可支持掩模版尺寸:3"x3"、4"x4"、5"x5"、7"x7"各一件
 
　　17.標配承片臺:2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
 
　　18.標準配件可兼容樣片厚度:0.1-5mm，其他尺寸可定制
 
　　19.對準系統(tǒng):光學+CCD,顯微倍數(shù):放大倍率:150倍-720倍可調(diào)
 
　　20.雙物鏡可調(diào)距離范圍:30mm-120mm

 

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